LPMS CVD12侧式真空气相沉积设备
真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备。工作时把含有构成薄膜元素的化合物(长链性高分子材料,一般为派瑞林Parylene)、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室,借助空间气相化学反应, 在产品表面上沉积生成0.1-100um的厚度均匀,无应力、优异的电绝缘性和防护性、防潮、防霉、防腐、防盐雾的薄膜涂层。
广泛应用于:航空航天、电路板、LED 、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵文物等领域产品的防水封装与保护工艺中。
l 1.2米大直径真空反应罐,单次镀膜产品多, 同时能满足大型工件的镀膜需求。
l 不锈钢真空反应罐,结构合理,坚固耐用。真空管路采用不锈钢连节,方便维护及保养。
l 侧开式门设计便于取放产品与腔体清洁等维护作业。
l 反应罐内置转盘机构使产品在镀膜过程中匀速旋转,镀层更均匀。
l 使用数位LED真空计显示工作状况时的真空度。
l 控制系统稳定安全可靠。
l 操作简易,可依实际需求变换自动 /手动操作模式。
l 红外线加热圈,加温速度快。
l 采用高精度温控装置多段控温,温控。
l 定时加热、超温报警和自动停止加热等保护功能
l 自诊功能和各种故障报警。
l 选配远程控制制和手机APP功能。
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